依靠压缩空气产生高压气流,挤压催化剂浆料高速穿过微小喷嘴,依靠气流剪切作用力实现浆料雾化。浆料全程必须流经细小喷嘴微孔,依靠高压完成破碎雾化。
采用非压力式超声雾化结构,浆料不流经喷头内部流道,压电换能器激发喷头表面高频波,将接触喷头端面的催化剂浆料轻柔雾化为微米亚微米级均匀雾滴,实现无高压雾化过程。
原理上的不同,直接衍生出堵头风险、液滴粒径分布、浆料适应性、对AEM 脆弱膜基材冲击程度的一系列差异。
对比项目 | DC气动喷涂仪 | DC超声喷涂仪 |
喷头堵塞风险 | 一般 Pt/C、非贵金属 AEM 催化剂浆料极易在微孔喷嘴干涸、颗粒卡滞;实验中途堵头直接影响样品;清理喷嘴工序繁琐,耗材损耗高。 | 无 物理结构规避堵头。浆料不穿过细小喷孔,长时间喷涂AEM 催化剂墨水也不会发生喷头堵塞,无需频繁拆洗喷头,实验可以多批次进行。 |
浆料沉降应对 | 多数基础机型无内置搅拌,AEM 催化剂墨水静置容易分层沉淀,越往后喷涂载量漂移,前后样品不一致。 | 标配磁力搅拌储料罐,喷涂全程持续搅拌,抑制AEM 墨水沉降分层,保障长时间供料浓度稳定。 |
对AEM膜基材冲击 | 高压液滴冲击,AEM 膜本身耐溶剂、抗冲击能力弱,容易出现膜形变、表面损伤,催化层容易剥落。 | 液滴柔和雾化落在膜表面,降低冲击损伤,适配脆弱AEM 阴离子交换膜基材。 |
操作门槛 | 需要反复调试气压、枪距,新手调试周期长。 | 自动化程序控制,一键启停,喷涂参数配方可保存,新手可快速上手,降低人为操作带来的数据离散。 |
AEM 膜电极对催化层有严苛要求:催化剂颗粒充分分散、无大面积团聚;涂层厚度均匀,厚度偏差小;保留合理孔隙结构,构建完整三相反应界面;同时要减少强气流带来的膜基材溶胀、涂层剥落风险。
DC气动喷涂仪表现:高压气流剪切雾化,液滴粒径分布宽,同时产生大量大液滴与干粉颗粒。AEM 催化剂墨水里面纳米催化剂容易发生二次团聚;高压冲击下,容易出现局部涂层堆积、针孔、条纹缺陷;大液滴撞击 AEM 膜,会造成湿膜铺展坍塌,破坏催化层本征多孔结构;涂层厚度偏差普遍在 1020% 区间,同一片 CCM 不同区域载量差异大,直接造成单电池测试数据波动大。
DC气动喷涂AEM膜
DC超声喷涂仪表现:高频超声生成粒径分布集中的细腻雾滴;喷头表面超声振动具备打散团聚效果,打散AEM 墨水内部催化剂团聚颗粒,让纳米颗粒均匀沉积;软雾沉积不会冲击破坏AEM 膜,完整保留催化层内部孔隙,构建连续的离子/电子/气体三相反应界面,减少针孔、局部堆积等缺陷,批次之间涂层结构一致性高。
DC超声喷涂AEM膜
采用相同AEM膜、相同催化剂墨水、同等贵金属载量条件下,两套设备制备 MEA进行单电池对比测试,性能差距清晰可辨:
峰值功率密度
DC气动喷涂制备AEM-MEA:催化剂团聚、孔隙被高压冲击破坏,三相界面有效反应位点变少,峰值功率密度偏低;同时涂层均匀性差,不同样品之间性能离散度大,平行样重复性差。
DC超声喷涂制备AEM-MEA:催化剂颗粒高度分散,有效活性位点充分暴露,三相界面构建完整;同等催化剂载量条件下,峰值功率密度相比气动喷涂提升约60%,平行样品性能差异小,实验数据可复现。
五、AEM研发该如何选择喷涂设备
DC气动喷涂设备优点是单次喷涂速率快,但是堵头风险高、雾滴冲击大、AEM样品重复性差,更适合对一致性要求不高的预实验粗筛,AEM燃料电池、AEM电解水需要可重复性的样品制备。
面向AEM膜电极的科研工作,DC 超声喷涂仪凭借不易堵头、软雾低冲击、浆料抗沉降、涂层均匀、样品重复性好的核心优势,可以稳定产出高质量 AEMMEA,大幅减少因为设备引入的实验误差,减少无效样品浪费,加速催化剂配方迭代与数据产出。
DC超声喷涂仪,为实验室MEA制备打造适配 PEMFC、PEMWE、AEMFC、AEMWE 全品类膜电极研发需求。
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